モリブデンを含有する薄膜の製造方法、薄膜形成用原料及びモリブデンイミド化合物
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 佐藤 宏樹,上山 潤二
- 申请号：
- JP20140546911
- 公开号：
- JPWO2014077073(A1)
- 申请日:
- 2013.10.15
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明の薄膜の製造方法は、下記一般式（Ｉ）で表されるモリブデンイミド化合物を含有してなる薄膜形成用原料を気化させて得たモリブデンイミド化合物を含有する蒸気を基体上に導入し、これを分解及び／又は化学反応させて、基体上にモリブデンを含有する薄膜を形成する。本発明の薄膜形成用原料は、下記一般式（Ｉ）で表されるモリブデンイミド化合物を含有してなる。（式中、Ｒ1〜Ｒ10は水素原子又は炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐状アルキル基を表し、Ｒ11は炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐状アルキル基を表す。）
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
