新規な化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 吉野 智晴,遠津 正揮,西田 章浩,杉浦 奈奈
- 申请号：
- JP20150121840
- 公开号：
- JP2017007952(A)
- 申请日:
- 2015.06.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】本発明の目的は、化学気相成長用原料等を気化させて基材表面に金属を含有する薄膜を形成する際に、蒸気圧が高く、融点が低く、低いエネルギーで高品質な金属含有薄膜を製造することができる薄膜形成用材料に使用するための新規な化合物、該化合物を含有してなる薄膜形成用原料及び該薄膜形成用原料を用いた薄膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明の新規化合物は、特定のジアザジエン系金属化合物からなることを特徴とする。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
