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アルミニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
专利权人:
株式会社ADEKA
发明人:
吉野 智晴,桜井 淳,白鳥 翼,畑▲瀬▼ 雅子,内生蔵 広幸,西田 章浩
申请号:
JP20140554256
公开号:
JPWO2014103588(A1)
申请日:
2013.11.26
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
本発明は、下記一般式(I)で表されるアルミニウム化合物に関する。また本発明は、該アルミニウム化合物を含有してなる薄膜形成用原料に関する。下記一般式(I)式中、R1及びR2は各々独立に炭素数2〜5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R3はメチル基又はエチル基を表す。R1及びR2がエチル基であることが好ましい。本発明の化合物は、低融点であり、充分な揮発性を示し且つ高い熱安定性を有し、CVD法による薄膜形成用原料として適している。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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