ジアザジエニル化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 吉野 智晴,遠津 正揮,西田 章浩,山下 敦史
- 申请号：
- JP20160166588
- 公开号：
- JP2018035072(A)
- 申请日:
- 2016.08.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ＣＶＤ法又はＡＬＤ法による薄膜形成用原料に好適な、蒸気圧が高く、自然発火性が無く、熱分解開始温度が高いジアザジエニル化合物、前記化合物を含む薄膜形成用原料及び前記原料を用いた薄膜製造方法の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表されるジアザジエニル化合物。［Ｒ１は炭素数１〜６の直鎖又は分岐状のアルキル基；ＭはＮｉ又はＭｎ］【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
