アルコキシド化合物、薄膜形成用原料、薄膜の形成方法及びアルコール化合物

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专利权人:

株式会社ＡＤＥＫＡ

发明人:

桜井 淳,畑▲瀬▼ 雅子,吉野 智晴,遠津 正揮

申请号：

JP20160540139

公开号：

JPWO2016021385(A1)

申请日:

2015.07.16

申请国别(地区):

日本

年份:

2017

代理人:

摘要：

本発明のアルコキシド化合物は、 下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする：【化１】

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/