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紫外LED外延片及其制备方法与应用
专利权人:
广东省科学院半导体研究所
发明人:
何晨光,廖乾光,陈志涛,赵维,贺龙飞,吴华龙,张康
申请号:
CN202011129880.4
公开号:
CN112259654A
申请日:
2020.10.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明公开一种紫外LED外延片及其制备方法与应用,其中,紫外LED外延片包括依次外延生长的n型半导体层、有源层、电子阻挡层和p型半导体层;电子阻挡层由第一子层和第二子层交替生长而成的超晶格结构组成,第一子层为氮化硼铝层,第二子层为氮化铝镓层。本发明提供的紫外LED外延片采用交替生长的氮化硼铝层和氮化铝镓层构成电子阻挡层,使得电子阻挡层导带的能级位置更高,提高电子的有效势垒高度,有效阻挡电子跃迁到p型半导体层;同时,降低电子阻挡层与有源区的空穴势垒高度,显著改善空穴注入有源层的注入效率;因此,能提高有源区的辐射复合速率,从而提高紫外LED的发光效率。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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