化学気相含浸装置
- 专利权人:
- 株式会社ＩＨＩ
- 发明人:
- 渡辺 健一郎,石崎 雅人,大越 直博
- 申请号：
- JP20160160558
- 公开号：
- JP2018028133(A)
- 申请日:
- 2016.08.18
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】化学気相含浸装置において、ワークの搬入出を容易としかつマトリックスの膜厚を均一化する。【解決手段】化学気相含浸法によりワークの表面に対してマトリックスを含浸形成する化学気相含浸装置であって、水平方向に向けてワークの搬入出開口が形成された反応炉と、反応炉の内部に対して、第１方向と、当該第１方向と交差する方向である第２方向とから原料ガスを供給可能な原料ガス供給ユニットとを備える。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
