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構造物を気相化学的にドライエッチングするための方法及び装置
- 专利权人:
- エスピーティーエス テクノロジーズ リミティド
- 发明人:
- ジョン ノイマン,カイル エス．ルブッツ
- 申请号：
- JP20160145669
- 公开号：
- JP2017028291(A)
- 申请日:
- 2016.07.25
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】構造物を気相化学的にドライエッチングする方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、構造物を気相化学的にドライエッチングする方法であって、構造物をエッチングチャンバー内に配置するステップであって、この構造物が第１の材料及び第２の材料を含み、第１の材料がケイ素、モリブデン、ゲルマニウム、ＳｉＧｅ及びタングステンから選択され、第２の材料が二酸化ケイ素又は窒化ケイ素であり、第１の材料の少なくとも１つの表面が気相化学エッチャントにより接触可能であるように暴露している、ステップ；及び第１の材料を希ガスフッ化物又はハロゲンフッ化物気相化学エッチャントでエッチングするステップ、を含み、この方法が、第１の材料をエッチングするステップが水蒸気の存在下で行われるように、エッチングチャン
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
