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プラズマ化学気相成長装置
- 专利权人:
- トヨタ自動車株式会社;アリオス株式会社
- 发明人:
- 佐藤 羊治,佐藤 貴康,中田 博道,橘 和孝,有屋田 修,高野 裕二,鶴本 諒
- 申请号：
- JP20150126806
- 公开号：
- JP2017008389(A)
- 申请日:
- 2015.06.24
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】直流電圧を被処理物に印加しつつ、マイクロ波を同被処理物に入力することで同被処理物に膜を生成するに際し、マイクロ波の直流電源側への漏えいを抑制することができるプラズマ化学気相成長装置を提供する。【解決手段】ＰＣＶＤ装置１１は、長尺状の第１の導体２０と、第１の導体２０の外周側に配置されている筒状の第２の導体３０と、第１の導体２０の外側面２０ａにマイクロ波を流す高周波出力装置４５と、第１の導体２０に直流電圧を供給する直流電源４６とを備える。第１の導体２０における高周波出力装置４５との接続部分である第１の接続部２３は、第１の導体２０における直流電源４６との接続部分である第２の接続部２４よりも、被処理物Ｗを支持する支持部２１の近くに位置している。そして、第１の導体２０における
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
