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不安定プラークへの選択的集積性に優れる化合物
专利权人:
KYOTO UNIV
发明人:
SAJI HIDEO,佐治 英郎,ONO MASAHIRO,小野 正博,TENMA TAKASHI,天滿 敬,SEKI IKUYA,関 育也
申请号:
JP2013086848
公开号:
JP2013256491A
申请日:
2013.04.17
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound excellent in selective accumulation to an unstable plaque.SOLUTION: There is disclosed a compound expressed by formula (1) or a salt thereof. In the formula, A1 is oxygen or an NH group R1 and R2 are hydrogen or a radioactive halogen substituent, provided that only either of R1 and R2 is the radioactive halogen substituent R3 is hydrogen or a methoxy group.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】本発明は、不安定プラークへの選択的集積性に優れる化合物を提供する。【解決手段】 式(1)[式中、A1は酸素またはNH基であり、R1およびR2は水素または放射性ハロゲン置換基であり、ただしR1およびR2のいずれか一方のみが放射性ハロゲン置換基であり、R3は水素またはメトキシ基である]で表される化合物またはその塩:【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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