空間的原子層堆積又はパルス化学気相堆積を使用する膜堆積
- 专利权人:
- アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
- 发明人:
- レイ， ユイ,ガンディコッタ， シュリーニヴァース,ギャングリ， セシャドリ,チョン， ポー,ジャッカラジュ， ラージクマール,サリナス， マーティン ジェフ,シュミーゲ， ベンジャミン
- 申请号：
- JP20160544533
- 公开号：
- JP2017503079(A)
- 申请日:
- 2014.12.31
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 各セクションが独立して処理条件を有するように、ガスカーテンによって分けられた複数のセクションを有する円形バッチ処理チャンバを使用して、膜を堆積する原子層堆積方法が提供される。【選択図】図４
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
