化学気相成長用組成物
- 专利权人:
- エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドＡＩＲ ＰＲＯＤＵＣＴＳ ＡＮＤ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
- 发明人:
- マンチャオ シャオ,アーサー ケネス ホッホバーグ
- 申请号：
- JP20160156443
- 公开号：
- JP2017011281(A)
- 申请日:
- 2016.08.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】取扱い及び反応の過程に危険性がない炭窒化ケイ素膜形成用前駆体を用いて、低温で化学気相成長により基材上に炭窒化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。【解決手段】以下の式によって表される、室温及び室圧において液体で、塩素及び塩素副生成物を発生しないアミノシラン並びにそれらの混合物からなる群より選択される前駆体を用いて、炭窒化ケイ素膜を形成する。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
