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吡唑并吡啶衍生物
- 专利权人:
- 霍夫曼-拉罗奇有限公司
- 发明人:
- 菲利普·雅布隆斯基,马蒂亚斯·内特科文,安热莉克·帕蒂尼-亚当,哈萨内·拉特尼,海因茨·施塔德勒
- 申请号：
- CN201180019686.3
- 公开号：
- CN102858775A
- 申请日:
- 2011.04.15
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式(I)的化合物，其中R1是氢，低级烷基，被卤素取代的低级烷基，苄基，-C(O)-低级烷基，-C(O)-CH2-低级烷氧基，-C(O)-C3-6-环烷基，-(CH2)o-C(O)-NR，R’，-(CH2)oS(O)2-低级烷基或-S(O)2-NR，R’；o是0或1；R，R’彼此独立地是氢或低级烷基，或者可以与它们连接的N原子一起形成5或6元杂环烷基环；R2是氢或低级烷基；R3是卤素，低级烷氧基，被卤素取代的低级烷基或被卤素取代的低级烷氧基；并且在n是2的情况下可以相同或不同；n是1或2；Ar是任选被1或2个取代基取代的苯基，所述取代基选自低级烷基，卤素，低级烷氧基，被羟基取代的低级烷基或氰基，或者是5或6元杂芳基，其选自噻吩基或吡啶基，它们任选地被低级烷基或卤素取代；或者涉及药用活性酸加成盐。已令人吃惊地发现所述式I的化合物对NK1和NK3受体两者同时显示出高亲和性(双重NK1/NK3受体拮抗剂)，可用于治疗精神分裂症。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
