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作为NK3拮抗剂的吡咯烷衍生物
- 专利权人:
- 霍夫曼-拉罗奇有限公司
- 发明人:
- 亨纳·努斯特,马蒂亚斯·内特科文,哈萨内·拉特尼,沃尔特·维凡
- 申请号：
- CN201280004658.9
- 公开号：
- CN103282357A
- 申请日:
- 2012.01.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式(I)的化合物，其中，R1是(A)，或是苯基、吡啶基或哒嗪基，其中苯基、吡啶基和哒嗪基可以任选地被以下各项取代：氰基、低级烷基、卤素-取代的苯基、低级烷基-取代的[1，2，4]二唑-3-基或被2-氧代-哌啶-1-基取代；X是NR或O；R是C(O)-低级烷基、被低级烷基取代的-C(O)-环烷基、环烷基，或者是苯基、吡啶基或哒嗪基，其中苯基、吡啶基和哒嗪基可以任选地被以下各项取代：低级烷基、低级烷氧基、氰基、-C(O)-低级烷基、卤素或被卤素取代的低级烷基；R2是氢或低级烷基；R3是氢、卤素、氰基、低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R4是氢或低级烷基；其中R2和R4不同时是氢或低级烷基；R5是低级烷基；R6是卤素、羟基、低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷基、S(O)2-低级烷基或氰基；或其药用酸加成盐。已经发现本发明化合物是高潜力的NK-3受体拮抗剂，用于治疗抑郁，疼痛，精神病，帕金森病，精神分裂症，焦虑和注意缺陷多动症(ADHD)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
