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作为NK3拮抗剂的螺哌啶衍生物
专利权人:
弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
发明人:
J·M·卡龙,M·P·狄龙,B·韩,M·内特科文,H·拉特尼,W·维菲安
申请号:
CN200880006465.0
公开号:
CN101622259B
申请日:
2008.01.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及式(I)化合物或其药学上适宜的酸加成盐,其中R1是氢或低级烷基;R2是低级烷基、低级羟基烷基或-(CHR5)x-A;R5是氢、低级烷基或低级羟基烷基,或者是任选被低级烷基取代的杂芳基;A是环烷基、芳基、杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个R6取代,其中R6是低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、氰基、卤素、被卤素取代的低级烷基或者被卤素取代的低级烷氧基,或者是任选被低级烷基取代的芳基、杂环基或杂芳基,或者是任选被低级烷基取代的环烷基;x是0、1、2或3;或者R1、R2可以与N-原子一起形成杂环基或杂芳基,所述环任选被一个或多个选自如下的取代基所取代:低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、卤素、环烷基、苄基或芳基;R3是氢或卤素;R4是氢或低级烷基;R7是氢、卤素或低级烷基;m是1或2;当m是2时,R3可以相同或不同;n是1或2;o是1或2;当o是2时,R7可以相同或不同。已经发现,本发明的化合物是高效的NK-3受体拮抗剂,用于治疗抑郁、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、焦虑和注意缺陷多动症(ADHD)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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