作为NK3拮抗剂的螺哌啶衍生物

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专利权人:

弗·哈夫曼-拉罗切有限公司

发明人:

J·M·卡龙,M·P·狄龙,B·韩,M·内特科文,H·拉特尼,W·维菲安

申请号：

CN200880006465.0

公开号：

CN101622259B

申请日:

2008.01.02

申请国别(地区):

CN

年份:

2012

代理人:

摘要：

本发明涉及式(I)化合物或其药学上适宜的酸加成盐，其中R1是氢或低级烷基；R2是低级烷基、低级羟基烷基或-(CHR5)x-A；R5是氢、低级烷基或低级羟基烷基，或者是任选被低级烷基取代的杂芳基；A是环烷基、芳基、杂环基或杂芳基，所述环任选被一个或多个R6取代，其中R6是低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、氰基、卤素、被卤素取代的低级烷基或者被卤素取代的低级烷氧基，或者是任选被低级烷基取代的芳基、杂环基或杂芳基，或者是任选被低级烷基取代的环烷基；x是0、1、2或3；或者R1、R2可以与N-原子一起形成杂环基或杂芳基，所述环任选被一个或多个选自如下的取代基所取代：低级烷基、低级烷氧基、低级烷基磺酰基、卤素、环烷基、苄基或芳基；R3是氢或卤素；R4是氢或低级烷基；R7是氢、卤素或低级烷基；m是1或2；当m是2时，R3可以相同或不同；n是1或2；o是1或2；当o是2时，R7可以相同或不同。已经发现，本发明的化合物是高效的NK-3受体拮抗剂，用于治疗抑郁、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、焦虑和注意缺陷多动症(ADHD)。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/