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作为NK1/NK3受体双重拮抗剂的吡咯烷衍生物
- 专利权人:
- 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
- 发明人:
- C·比桑茨,T·霍夫曼,P·雅布翁斯基,H·柯纳斯特,M·内特科文,H·拉特尼,吴希罕
- 申请号：
- CN200880012165.3
- 公开号：
- CN101657418B
- 申请日:
- 2008.04.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式(I)的吡咯烷衍生物，其中R1是氢、卤素或低级烷基；R2是氢、卤素、低级烷氧基或被卤素取代的低级烷基；R3是-(CH2)p-杂环基，其任选被低级烷基、卤素、-S(O)2-低级烷基、-C(O)-低级烷基、-C(O)O-低级烷基、羟基、被羟基取代的低级烷基、-(CH2)p-O-低级烷基、-NHCO-低级烷基取代，或者是C3-6-环烷基，其任选被＝O、-(CH2)p-O-低级烷基或低级炔基取代，或者是未被取代的或被取代的芳基或杂芳基，其中取代基选自低级烷基、CN、-S(O)2-低级烷基、卤素、-C(O)-低级烷基、羟基、低级烷氧基或被卤素取代的低级烷氧基；或者是-(CH2)p-NR4R5；R4/R5彼此独立地是氢、低级烷基、被羟基取代的-(CRR’)p-低级烷基、-(CRR’)p-O-低级烷基、-(CRR’)p-S-低级烷基、被羟基取代的-(CRR’)p-O-低级烷基或C3-6-环烷基；R/R’彼此独立地是氢、低级烷基或被羟基取代的低级烷基；n 是1或2；0 是1或2；p 是0、1、2、3或4；或其有药学活性的酸加成盐。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
