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作为NK3受体拮抗剂的哌啶衍生物
- 专利权人:
- 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
- 发明人:
- H·柯纳斯特,M·内特科文,H·拉特尼,C·雷默,W·维菲安
- 申请号：
- CN201080004810.4
- 公开号：
- CN102282139B
- 申请日:
- 2010.01.19
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式I化合物或其药用活性盐、外消旋混合物、对映体、光学异构体或互变异构体。在式I中，Ar1为芳基或6元杂芳基；Ar2为芳基或6元杂芳基；R1为氢、卤素、低级烷基、低级烷氧基或被卤素取代的低级烷基；R2为氢、卤素、低级烷基、被卤素取代的低级烷基或氰基；R3为氢或低级烷基；R4为氢、低级烷基、任选被卤素取代的苯基，或者为任选被低级烷基取代的5元杂芳基，或者为任选被卤素取代的芳基；为6元杂环基团，其中X为-N(SO2CH3)；R6为氢；Y为-N(R7’)-；R7’为任选被氰基取代的6元杂芳基，或C(O)-环烷基，其中所述环烷基任选被低级烷基取代；n为1；m为1；o为1；p为1；s为0；t为1；u为1。已经发现，这些化合物对于NK3受体拮抗剂有高活性，可以用于治疗抑郁、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、焦虑和注意力缺乏多动症(ADHD)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
