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作为NK3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物
- 专利权人:
- 霍夫曼-拉罗奇有限公司
- 发明人:
- 菲利普·雅布隆斯基,亨纳·努斯特,马蒂亚斯·内特科文,安热莉克·帕蒂尼-亚当,哈萨内·拉特尼,克劳斯·里默尔
- 申请号：
- CN201080037451.2
- 公开号：
- CN102482259A
- 申请日:
- 2010.08.20
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式(I)化合物，其中R1是氢或低级烷基；R2是氢，低级烷基，被卤素取代的低级烷基，或者是卤素或CN，并且如果o为2，则可以是相互独立的；Ar1是芳基或杂芳基；Ar2是芳基或杂芳基；R’/R”相互独立地是氢，低级烷基，低级烷氧基，卤素，C(O)-低级烷基，氰基或被卤素取代的低级烷基；m是0，1，或2，条件是n是0；或m是0或1，条件是n是1；n是0或1；o是1或2；或者涉及其药物活性盐，外消旋混合物，对映异构体，光学异构体或互变异构形式。已经发现本发明化合物是高潜力的NK-3受体拮抗剂，用于治疗抑郁，疼痛，精神病，帕金森病，精神分裂症，焦虑和注意缺陷多动障碍(ADHD)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
