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作为NK3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物
- 专利权人:
- 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
- 发明人:
- H·柯纳斯特,A·林博格,M·内特科文,H·拉特尼,C·雷默
- 申请号：
- CN201080006985.9
- 公开号：
- CN102307853A
- 申请日:
- 2010.02.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及式I的化合物其中A 是-NR’-、-S-、-S(O)-或-S(O)2-；R’是氢或低级烷基；Ar 是芳基或者是含有一个或两个N-原子的五或六元杂芳基；R 是五或六元杂环基X1是N或CH；且X2是-N(R1)-、-CH2-、-O-、-S-、-S(O)-或-S(O)2-，R1是氢、低级烷基、S(O)2-低级烷基、C(O)-低级烷基、任选被低级烷基取代的C(O)-环烷基；条件是X1或X2中至少一个含有杂原子，或者是含有一个或两个N-原子的五或六元杂芳基，该基团是未被取代的或者可以被一个或两个R1’取代；其中R1’是低级烷基或氰基；R2是被卤素取代的低级烷基、卤素、氰基或硝基；R3是卤素；R4是氢或低级烷基；o是1或2；在o是2的情况下，R2可以相同或不同；p是1或2；在p是2的情况下，R3可以相同或不同；或其有药学活性的盐。已经发现本发明的化合物是用于治疗抑郁、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、双相性精神障碍、焦虑和注意缺陷多动症(ADHD)的高效能的NK-3受体拮抗剂。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
