マイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置
- 专利权人:
- 株式会社ＣＮＫ;国立大学法人名古屋大学
- 发明人:
- 橋富 弘幸,山本 正司,山本 大悟,永坂 祐大,道元 俊成,上坂 裕之
- 申请号：
- JP20150234937
- 公开号：
- JP2017101281(A)
- 申请日:
- 2015.12.01
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】被処理材に均一に成膜できるマイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置を提供すること。【解決手段】チャンバー１内に突出する突出導波管５２ｂを備え、突出導波管５２ｂは少なくともマイクロ波の半波長より長く、マイクロ波取り出し部６は突出導波管５２ｂに形成されるマイクロ波の定在波ＭＳ０の腹を望む突出導波管５２ｂの管壁５２ｂ０に配置される。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
