タングステン材料のＣＭＰ用組成物及び方法
- 专利权人:
- キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
- 发明人:
- リン チー−アン,ジャン チェン
- 申请号：
- JP20160556882
- 公开号：
- JP2017515298(A)
- 申请日:
- 2015.03.05
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、タングステン含有基材を研磨するための化学機械研磨（ＣＭＰ）方法を提供する。本発明の方法で使用される研磨組成物は、水性キャリアと、研磨剤と、ポリアミノ化合物と、金属イオンと、キレート剤と、酸化剤と、任意選択でアミノ酸とを含む。本発明の方法は、タングステンを効果的に除去して、タングステンＣＭＰに典型的に関連する凹部のような表面欠陥を減らす。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
