成膜装置及び成膜方法
- 专利权人:
- 株式会社リコー
- 发明人:
- 小西 淳一
- 申请号：
- JP20150203021
- 公开号：
- JP2017076692(A)
- 申请日:
- 2015.10.14
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】立体構造を持つ成膜対象部材の表面に成膜材料を噴霧することによって成膜する場合に、その表面上の凸部や凹部の側壁面に成膜される膜厚のムラを抑制することを課題とする。【解決手段】噴霧部材４から成膜材料を噴霧することにより成膜対象部材２０の表面上に膜を形成する成膜装置１０において、前記成膜対象部材の表面法線方向に略平行な回転軸回りで前記噴霧部材と該成膜対象部材とを相対回転させる相対回転手段１３と、互いに異なる２以上の相対回転位置で、前記成膜対象部材の表面上の同一箇所に対して前記噴霧部材から成膜材料を噴霧させる制御を実行する制御手段３０とを有する。【選択図】図１
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