您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
膜厚制御装置、膜厚制御方法および成膜装置
- 专利权人:
- 株式会社アルバック
- 发明人:
- 小林 義和,伊藤 敦,猿渡 治郎
- 申请号：
- JP20160534107
- 公开号：
- JPWO2016009626(A1)
- 申请日:
- 2015.07.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】異常値を原因とする蒸着源への過剰フィードバック制御を抑制することができる膜厚制御装置、膜厚制御方法および成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の一形態に係る膜厚制御装置は、蒸着源を有する成膜装置に設置された振動子の発振周波数に基づいて成膜レートを測定し、測定された上記成膜レートに基づいて上記蒸着源を制御する膜厚制御装置であって、レート算出部４３１と、第１のフィルタ部４３２と、第２のフィルタ部４３３とを具備する。レート算出部４３１は、振動子の発振周波数に基づいて、単位時間毎のレート換算値を算出する。第１のフィルタ部（中央値演算部４３２）は、レート算出部４３１から出力されるレート換算値から異常値を除去する（中央値を算出する）ように構成される。第２のフィルタ部（平滑化処理
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
