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コバルト含有基材の化学的機械的研磨（ＣＭＰ）
- 专利权人:
- バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー
- 发明人:
- シャオボー シー,ジョセフ ローズ,ティモシー ジョセフ クロアー,ジェイムズ アレン シュルーター,マルコム グリーフ,マーク レオナルド オニール
- 申请号：
- JP20170118409
- 公开号：
- JP2018014487(A)
- 申请日:
- 2017.06.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】コバルト基材又はコバルト含有基材の研磨のための化学的機械的研磨（ＣＭＰ）組成物、方法及びシステムを提供する。【解決手段】ＣＭＰ組成物は、α‐アラニン、研磨粒子、リン酸の塩、腐食防止剤、酸化剤及び水を含む。コバルト化学的機械的研磨組成物は、高Ｃｏ除去速度を提供するとともに、Ｃｏ膜と、例えばＴＥＯＳ、ＳｉｘＮｙ（式中、１．０＜ｘ＜３．０、１．３３＜ｙ＜４．０）、低‐ｋ及び超低‐ｋ膜などの誘電体膜との間の非常に高い選択性を提供する。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
