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コバルト及び/又はコバルト合金含有の基板の研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物の使用
专利权人:
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBASF SE
发明人:
ライヒャルト,ロベルト,ジーベルト,マクス,ラン,ヨンチン,ラウター,ミヒャエル,ウスマン イブラヒム,シェイク アンサール,ゴルザリアン,レザ,グェヴェンク,ハチ オスマン,プレルス,ユリアン,ロイニッセン,レオナルドゥス
申请号:
JP20170533933
公开号:
JP2018506607(A)
申请日:
2015.12.16
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
(i)コバルト及び/又は(ii)コバルト合金を含む基板(S)の化学機械研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物(Q)の使用であって、前記CMP組成物(Q)が、(A)無機粒子、(B)一般式(I)、【化1】(式中、R1は、H、ヒドロキシル、アルキル、アリール、アルキルアリール、アミノ、カルボキシル、アルキルカルボキシル、チオ又はアルキルチオである)の置換テトラゾール誘導体、(C)少なくとも1種のアミノ酸(D)少なくとも1種の酸化剤、及び(E)水性媒体を含み、前記CMP組成物(Q)が7〜10のpHを有する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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