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コバルト及び／又はコバルト合金含有の基板の研磨のための化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物の使用
- 专利权人:
- ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢＡＳＦ ＳＥ
- 发明人:
- ライヒャルト，ロベルト,ジーベルト，マクス,ラン，ヨンチン,ラウター，ミヒャエル,ウスマン イブラヒム，シェイク アンサール,ゴルザリアン，レザ,グェヴェンク，ハチ オスマン,プレルス，ユリアン,ロイニッセン，レオナルドゥス
- 申请号：
- JP20170533933
- 公开号：
- JP2018506607(A)
- 申请日:
- 2015.12.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- （ｉ）コバルト及び／又は（ｉｉ）コバルト合金を含む基板（Ｓ）の化学機械研磨のための化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物（Ｑ）の使用であって、前記ＣＭＰ組成物（Ｑ）が、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）一般式（Ｉ）、【化１】（式中、Ｒ１は、Ｈ、ヒドロキシル、アルキル、アリール、アルキルアリール、アミノ、カルボキシル、アルキルカルボキシル、チオ又はアルキルチオである）の置換テトラゾール誘導体、（Ｃ）少なくとも１種のアミノ酸（Ｄ）少なくとも１種の酸化剤、及び（Ｅ）水性媒体を含み、前記ＣＭＰ組成物（Ｑ）が７〜１０のｐＨを有する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
