ゲルマニウムを含む基板の高効率研磨のための化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物
- 专利权人:
- ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢＡＳＦ ＳＥ
- 发明人:
- ジーベルト，マクス,ラウター，ミヒャエル,ラン，ヨンチン,ライヒャルト，ロベルト,ミュンヒ，アレクサンドラ,ジクス，マヌエル,ダニエル，ゲラルト,ノラー，バスティアン マルテン,ホワン，ケヴィン,ウスマン イブラヒム，シェイク アンサール
- 申请号：
- JP20170532710
- 公开号：
- JP2018506176(A)
- 申请日:
- 2015.12.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物（Ｑ）であって、（Ａ）無機粒子、（Ｂ）一般式（Ｉ）の化合物、（Ｃ）水性媒体を含み、前記組成物（Ｑ）が２〜６のｐＨを有する化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物（Ｑ）。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
