タンパク質を含有する化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物
- 专利权人:
- ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢＡＳＦ ＳＥ
- 发明人:
- リー，ユイチュオ,ノラー，バスティアン マルテン,ラオター，ミヒャエル,ランゲ，ローラント
- 申请号：
- JP20140556155
- 公开号：
- JP6114312(B2)
- 申请日:
- 2013.01.25
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- Chemical mechanical polishing composition is provided. The composition comprises (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) a protein, and (C) an aqueous medium.
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
