PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device of manufacturing an aqueous solution of hypochlorous acid without using an acid and generating substantially no chlorine gas, and a method therefor.SOLUTION: There are provided the method of manufacturing hypochlorous acid including a process of treating a hypochlorous acid solution with a silica gel, the manufacturing device for hypochlorous acid with silica gel, a vessel for manufacturing hypochlorous acid containing a silica gel which does not act as an acid having not higher than a pH at which calcium hypochlorite and chlorine gas are generated, and hypochlorous acid obtained by the method.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】 本発明は、酸を使用することなく、かつ実質的に塩素ガスを発生することなく次亜塩素酸水溶液を製造するための装置および方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、次亜塩素酸の製造方法であって、次亜塩素酸塩溶液をシリカゲルで処理する工程を含む製造方法を提供する。また、シリカゲルを備える次亜塩素酸の製造装置を提供する。さらに、次亜塩素酸カルシウムと塩素ガスが発生するpH以下の酸として作用しないシリカゲルとを含む、次亜塩素酸の製造のための容器を提供する。さらに、上記方法によって得られた次亜塩素酸を提供する。【選択図】 図1
