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弱酸性次亜塩素酸、並びにその製造装置および製造方法
专利权人:
エヴァテック株式会社
发明人:
牧野和徳,寺田 稔
申请号:
JP2011544716
公开号:
JP5692657B2
申请日:
2011.04.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention aims to provide an apparatus and method for producing the aqueous solution of hypochlorous acid without generating chlorine gas and substantially without the use of acid. A method for producing a weakly acidic hypochlorous acid, the present invention provides a manufacturing method including a step of treating with a weakly acidic ion exchanger hypochlorite solution. There is also provided a manufacturing apparatus for weakly acidic hypochlorous acid with a weakly acidic ion exchanger. Further provided and a weak acid ion exchanger with a buffering action in the pH or chlorine gas, calcium hypochlorite is generated, the container for the production of weakly acidic hypochlorous acid. Further provided is a weakly acidic hypochlorous acid obtained by the above method.本発明は、酸を使用することなく、かつ実質的に塩素ガスを発生することなく次亜塩素酸水溶液を製造するための装置および方法を提供することを目的とする。 本発明は、弱酸性次亜塩素酸の製造方法であって、次亜塩素酸塩溶液を弱酸性イオン交換体で処理する工程を含む製造方法を提供する。また、弱酸性イオン交換体を備える弱酸性次亜塩素酸の製造装置を提供する。さらに、次亜塩素酸カルシウムと塩素ガスが発生するpH以上で緩衝作用を持つ弱酸性イオン交換体とを含む、弱酸性次亜塩素酸の製造のための容器を提供する。さらに、上記方法によって得られた弱酸性次亜塩素酸を提供する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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