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可変容量性チューナおよびフィードバック回路を有する物理的気相堆積
- 专利权人:
- アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
- 发明人:
- ラシード， モハマド エム．,デドア， ロナルド ディー．,コックス， ミカエル エス．,ミラー， キース エー．,ヤング， ドニー,フォスター， ジョン シー．,アレン， アドルフ エム．,ハウリルチャック， ララ
- 申请号：
- JP20170173693
- 公开号：
- JP2018035443(A)
- 申请日:
- 2017.09.11
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ウエハ表面全体にわたるイオン密度の半径方向分布及びイオンエネルギーの半径方向分布を精密に制御することが可能な物理的気相堆積プラズマリアクタの提供。【解決手段】ウエハを支持することができるペデスタル、可変容量を有する可変コンデンサ１０、可変コンデンサ１０のキャパシタンスを変える可変コンデンサに取り付けられたモータ２８、モータ２８に接続されたモータコントローラ２６、及びペデスタルに接続された可変コンデンサ１０からの出力部１６を含み、可変コンデンサ１０の所望の状態は、プロセスコントローラにおける処理方策に関連づけられている物理的気相堆積プラズマリアクタ。【選択図】図１２
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
