プラズマ補助物理気相蒸着源
- 专利权人:
- コリア ベーシック サイエンス インスティテュート
- 发明人:
- チョイ ヨンソプ,ジョン ヨンホ,ノ テヒョプ,ソク ドンチャン,パク ヒョンジェ
- 申请号:
- JP20150555090
- 公开号:
- JP6078171(B2)
- 申请日:
- 2013.12.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- The present invention relates to a physical vapour deposition source using plasma, and relates to a technique whereby plasma is combined with a thermal physical vapour deposition source for forming a thin film under high vacuum.
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心