PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma treatment device with improved handling. The plasma sensor monitors a parameter characterizing the state of the plasma and/or its changes during the treatment phase, thus recognizing an expected or already occurring interruption of the plasma. , Avoiding this interruption and, in the ideal case, avoiding it by changing the voltage form in advance to its previous form. This mechanism can also be used by the controller 22 during pulse packets. The length of each pulse packet is adapted for each change of voltage form due to its characteristics in order to guarantee a constant average power. [Selection diagram] Figure 1【課題】取り扱いが改善されたプラズマ治療装置を提供する。【解決手段】プラズマセンサは、治療段階中のプラズマ２１の状態を特徴付けるパラメータおよび／またはその変化を監視し、それによって、プラズマの予想される、またはすでに起こっている中断をこのようにして認識し、この中断を回避し、理想的な場合、電圧形態をその前の形に事前に変更することによってこれを回避する。このメカニズムは、パルスパケット中にも制御装置２２で使用することができる。各パルスパケットの長さは、一定の平均電力を保証するために、その特性による電圧形態の変更ごとに適合される。【選択図】図１
