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DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE PLASMA
专利权人:
Erbe Elektromedizin GmbH
发明人:
申请号:
EP18210346.5
公开号:
EP3662854A1
申请日:
2018.12.05
申请国别(地区):
EP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Der Plasmasensor überwacht während der Behandlungsphase den Zustand des Plasmas charakterisierende Größen und/oder deren Veränderung, um so eine sich ankündigende oder bereits erfolgte Unterbrechung des Plasmas zu erkennen und diese im Idealfall bereits im Vorfeld durch Änderung der Spannungsform zu verhindern. Die genannten Mechanismen können von der Steuereinrichtung (22) auch während eines Pulspakets genutzt werden. Die Länge jedes Pulspakets wird bei jedem Wechsel der Spannungsform gemäß deren Eigenschaften angepasst, um eine gleichbleibende mittlere Leistung sicherzustellen.During the treatment phase, the plasma sensor monitors the quantities characterizing the state of the plasma and / or their change, in order to detect an impending or already occurring interruption of the plasma and, ideally, to prevent this in advance by changing the voltage form. The mechanisms mentioned can also be used by the control device (22) during a pulse packet. The length of each pulse packet is adjusted each time the voltage form is changed in accordance with its properties in order to ensure a constant average power.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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