The plasma sensor monitors parameters characterizing the state of the plasma and/or its changes during the processing step, thereby recognizing expected or already occurring interruptions of the plasma in this way, avoiding such interruptions, and ideally, prior to voltage This is avoided by changing the shape in advance. The mentioned mechanism can be used by the control device 22 even during pulse packets. The length of each pulse packet is adapted to each change in voltage shape according to its characteristics to ensure a constant average power.플라즈마 센서는 처리 단계 동안 플라즈마의 상태 및/또는 그 변화를 특징 짓는 파라미터를 모니터링하여, 이러한 방식으로 플라즈마의 예상되는 또는 이미 발생된 중단을 인식하고, 이러한 중단을 회피하며, 이상적인 경우, 이전에 전압 형태를 미리 변경함으로써 이를 회피한다. 언급된 메커니즘은 펄스 패킷 동안에도 제어 디바이스(22)에 의해 사용될 수 있다. 각 펄스 패킷의 길이는 일정한 평균 전력을 보장하기 위해 그 특성들에 따라 전압 형태의 각각의 변경에 적응된다.
