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計測装置、計測装置の校正方法および校正部材
- 专利权人:
- 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 发明人:
- 波田野 道夫,中山 義則,松崎 大,川田 洋揮,桃井 義典,王 志剛
- 申请号：
- JP20150189120
- 公开号：
- JP2017067451(A)
- 申请日:
- 2015.09.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】微細パターンの測長，検査において，微小なプローブ径の変動や装置間機差が，測長結果や検査結果が所定の値に収まるように装置状態を管理することで，高い精度で装置性能を管理ことが出来る計測装置を提供する。【解決手段】計測装置では，一次荷電量子線１０を試料８に照射して走査する照射光学系と，試料から発生した二次荷電粒子を検出する検出器５と，検出器からの出力信号を処理する信号処理部とを有し，信号処理部は既知の第一寸法で校正された第一パターン群および既知の第二寸法で校正された第二パターン群の幅を測長する測長部１５と，第一及び第二のパターン群における既知の寸法と，前記第一及び第二のパターン群における測長値との関係を関数として定義する演算部２３とを有する。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
