成膜装置
- 专利权人:
- キヤノンアネルバ株式会社
- 发明人:
- 厚見 正浩
- 申请号：
- JP20160508319
- 公开号：
- JPWO2015140858(A1)
- 申请日:
- 2014.11.14
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 基板に膜を形成する成膜装置であって、ターゲットを回転軸の周りに回転させる回転部と、アーク放電を発生させるためのストライカと、前記アーク放電を発生させる際に前記ターゲットの前記回転軸周りの側面と前記ストライカとが近接した近接状態となるように、前記ストライカを駆動する駆動部と、前記近接状態において前記ストライカに対向する前記ターゲットの前記側面における対向位置を変更するように、前記回転部による前記ターゲットの回転を制御する制御部と、を有することを特徴とする成膜装置を提供する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
