電界効果型パッシベーション層形成用組成物、電界効果型パッシベーション層付半導体基板、電界効果型パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池

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专利权人:

日立化成株式会社

发明人:

早坂 剛,吉田 誠人,野尻 剛,倉田 靖,田中 徹,織田 明博,足立 修一郎,服部 孝司,松村 三江子,渡邉 敬司,森下 真年,濱村 浩孝

申请号：

JP20140525898

公开号：

JP6269484(B2)

申请日:

2013.07.19

申请国别(地区):

日本

年份:

2018

代理人:

摘要：

A composition for forming a passivation layer containing a compound expressed by general formula (I): M(OR1) m , and one material selected from the group consisting of a fatty acid amide, a polyalkylene glycol compound, and an organic filler. M includes at least one metallic element selected from the group consisting of Nb, Ta, V, Y and Hf; each R1 individually represents a C1-8 alkyl group or a C6-14 aryl group; and m represents an integer of 1 to 5.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/