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電界効果型トランジスタの製造方法、位置合わせ方法、露光装置
- 专利权人:
- 株式会社リコー
- 发明人:
- 中村 有希,植田 尚之,安部 由希子,松本 真二,曽根 雄司,早乙女 遼一,新江 定憲,草柳 嶺秀
- 申请号：
- JP20160157846
- 公开号：
- JP2018025686(A)
- 申请日:
- 2016.08.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】アライメントマークの位置を精度よく検出することが可能な電界効果型トランジスタの製造方法を提供する。【解決手段】基材上に、酸化物半導体層及びアライメントマークを同一材料により形成する工程と、前記基材上に、前記酸化物半導体層及び前記アライメントマークを被覆する金属膜を形成する工程と、前記金属膜上に、フォトレジストを形成する工程と、前記アライメントマークに光を照射し、前記基材、前記アライメントマーク、前記金属膜、及び前記フォトレジストを透過する前記光を撮像して、前記フォトレジストに転写するパターンが形成されたマスクと前記アライメントマークとの相対的な位置関係を調整する工程と、前記マスクを介して前記フォトレジストを露光及び現像し、パターンに形成する工程と、前記フォトレジスト
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
