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金属酸化物前駆体薄膜パターンの製造方法、金属酸化物薄膜パターンの製造方法及び該方法により製造された金属酸化物薄膜パターン並びに電子部品
- 专利权人:
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 发明人:
- 日下 靖之,小倉 晋太郎,牛島 洋史,藤田 真理子
- 申请号：
- JP20150150675
- 公开号：
- JP2017034026(A)
- 申请日:
- 2015.07.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】印刷製造技術において、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程を必要としない、金属酸化物前駆体薄膜パターンの製造方法、金属酸化物薄膜パターンの製造方法、該製造方法により製造される金属酸化物薄膜パターン、及び該パターンを備える電子部品を提供する。【解決手段】金属酸化物薄膜を形成するための前駆体薄膜を基材に塗布した後、半乾燥化させた前駆体薄膜に、粘着材シートを当接して、不要な領域を基材から引き剥がすことにより、金属酸化物前駆体薄膜のパターンを製造する。前記前駆体薄膜のパターニングを行った後に、加熱処理等の酸化処理により、金属酸化物薄膜パターンを得ることができる。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
