金属酸化物薄膜形成用塗布液、金属酸化物薄膜の製造方法、及び電界効果型トランジスタの製造方法
- 专利权人:
- 株式会社リコー
- 发明人:
- 中村 有希,植田 尚之,安部 由希子,曽根 雄司
- 申请号：
- JP20110251495
- 公开号：
- JP6064314(B2)
- 申请日:
- 2011.11.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- A coating liquid for forming a metal oxide thin film, the coating liquid including: an inorganic indium compound; at least one of an inorganic magnesium compound and an inorganic zinc compound; and a glycol ether.
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
