The invention relates to a photocurable cosmetic composition, free from reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g / mol comprising one or more ethylenic double bonds: at least one polymer containing ethylenic double bonds, the average number of ethylenic double bonds per molecule the polymer (s) being greater than 1, the polymer (s) comprising at least one polyether polymer containing (meth) acrylate groups, - at least one polymer soluble in the polymer (s) polyether group (meth) acrylate and having a molecular weight less than 20000 g / mol, - at least one radical photoinitiator, - said composition comprising less than 5% by weight of solvent relative to the total weight of the composition. The invention also relates to a process for the cosmetic coating of nails or false nails using such a composition.L'invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, exempte de monomères réactifs de masse moléculaire inférieure à 400 g/mol comportant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques : - au moins un polymère comportant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1, le (ou les) polymères comportant au moins un polymère polymère polyéther à groupes (méth)acrylate, - au moins un polymère fïlmogène soluble dans le (ou les) polymère(s) polyéther à groupes (méth)acrylate et présentant une masse moléculaire inférieure à 20000g/mol, - au moins un photoamorceur radicalaire, - ladite composition comprenant moins de 5% en poids de solvant par rapport au poids total de la composition. L'invention concerne également un procédé de revêtement cosmétique d'ongles ou de faux-ongles utilisant une telle composition.
