The invention relates to a photocurable cosmetic composition, free from reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g / mol comprising one or more ethylenic double bonds: at least two polymers containing ethylenic double bonds, the average number of ethylenic double bonds per molecule of polymer being greater than 1, said at least two polymers comprising at least one polyester polymer with (meth) acrylate groups and at least one polyether polymer with (meth) acrylate groups, and - at least one radical photoinitiator. The invention also relates to a process for the cosmetic coating of nails or false nails using such a composition.L'invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, exempte de monomères réactifs de masse moléculaire inférieure à 400 g/mol comportant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques : - au moins deux polymères comportant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1, lesdits au moins deux polymères comportant au moins un polymère polyester à groupes (méth)acrylate et au moins un polymère polyéther à groupes (méth)acrylate, et - au moins un photoamorceur radicalaire. L'invention concerne également un procédé de revêtement cosmétique d'ongles ou de faux-ongles utilisant une telle composition.
