The invention relates to a photo-crosslinkable cosmetic composition, which is free of reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g/mol comprising one or more ethylenic double bonds: - at least one polymer comprising ethylenic double bonds, the mean number of ethylenic double bonds per polymer molecule being greater than 1, the polymer(s)comprising at least one polyether polymer containing (meth)acrylate groups, - at least one film-forming polymer soluble in the polyether polymer(s) containing (meth)acrylate groups and having a molecular mass of less than 20 000 g/mol, - at least one radical photoinitiator, -the said composition comprising less than 5% by weight of solvent relative to the total weight of the composition. The invention also relates to a cosmetic process for coating the nails or false nails using such a composition.Linvention porte sur une composition cosmétique photoréticulable qui est exempte de monomères réactifs ayant une masse moléculaire inférieure à 400 g/mol et comprenant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques, comprenant : au moins un polymère comprenant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1 et le ou les polymères comprenant au moins un polymère polyéther contenant des groupes (méth)acrylates au moins un polymère filmogène soluble dans le ou les polymères polyéthers contenant des groupes (méth)acrylates et ayant une masse moléculaire inférieure à 20 000 g/mol et au moins un photoinitiateur radicalaire, ladite composition comprenant moins de 5 % en poids de solvant par rapport au poids total de la composition. Linvention porte également sur un procédé cosmétique pour le revêtement des ongles ou de faux ongles utilisant une telle composition.
