The invention relates to a photo-crosslinkable cosmetic composition, which is free of reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g/mol comprising one or more ethylenic double bonds: -at least onepolymer comprising ethylenic double bonds, themeannumber of ethylenic double bondsper polymer molecule being greater than 1, the said at least onepolymer comprising at least one polyether polymer containing (meth)acrylate groupsmodified by a reaction with an amino group, and -at least one radical photoinitiator. The invention also relates to a cosmetic process for coating the nails or false nails using such a composition.Linvention porte sur une composition cosmétique photoréticulable, qui est exempte de monomères réactifs ayant une masse moléculaire inférieure à 400 g/mol et comprenant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques comprenant : au moins un polymère comprenant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthylénique par molécule de polymère étant supérieur à 1 et ledit ou lesdits polymères comprenant au moins un polymère polyéther contenant des groupes (méth)acrylates modifiés par une réaction par un groupe amino et au moins un photoinitiateur radicalaire. Linvention porte également sur un procédé cosmétique pour le revêtement des ongles ou de faux ongles utilisant une telle composition.
