The invention relates to a photocurable cosmetic composition, free from reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g / mol comprising one or more ethylenic double bonds: at least one polymer containing ethylenic double bonds, the average number of ethylenic double bonds per molecule of polymer being greater than 1, said at least one polymer comprising at least one polyether polymer containing groups (meth) acrylate modified by reaction with an amino group, and - at least one radical photoinitiator. The invention also relates to a process for the cosmetic coating of nails or false nails using such a composition.L'invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, exempte de monomères réactifs de masse moléculaire inférieure à 400 g/mol comportant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques : - au moins un polymère comportant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1, ledit au moins un polymère comportant au moins un polymère polyéther à groupes (méth)acrylate modifié par réaction avec un groupe amino, et - au moins un photoamorceur radicalaire. L'invention concerne également un procédé de revêtement cosmétique d'ongles ou de faux-ongles utilisant une telle composition.
