The invention relates to a photocurable cosmetic composition, free from reactive monomers with a molecular mass of less than 400 g / mol comprising one or more ethylenic double bonds: at least one polymer containing ethylenic double bonds, the average number of ethylenic double bonds per molecule of polymer being greater than 1, the polymer (s) comprising at least one polyether polymer containing (meth) acrylate groups, - at least one film-forming polymer soluble in the polyether group polymer (s) ( meth) acrylate and having a molecular mass greater than 20000g / mol, - at least one radical photoinitiator, - at least one organic solvent selected from short chain esters having in total from 3 to 8 carbon atoms. The invention also relates to a process for the cosmetic coating of nails or false nails using such a composition.L'invention concerne une composition cosmétique photoréticulable, exempte de monomères réactifs de masse moléculaire inférieure à 400 g/mol comportant une ou plusieurs doubles liaisons éthyléniques : - au moins un polymère comportant des doubles liaisons éthyléniques, le nombre moyen de doubles liaisons éthyléniques par molécule de polymère étant supérieur à 1, le (ou les) polymère(s) comportant au moins un polymère polyéther à groupes (méth)acrylate, - au moins un polymère filmogène soluble dans le (ou les) polymère(s) polyéther à groupes (méth)acrylate et présentant une masse moléculaire supérieure à 20000g/mol, - au moins un photoamorceur radicalaire, - au moins un solvant organique choisi parmi les esters à courte chaîne comportant au total de 3 à 8 atomes de carbone. L'invention concerne également un procédé de revêtement cosmétique d'ongles ou de faux-ongles utilisant une telle composition.
