20(S)-진세노사이드 Rg3를 다량 함유하는 조성물 및 그 제조방법

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专利权人:

DUZONPHC CO.; LTD.

发明人:

KANG, TAE HWA,강태화,HWANG, PYO HA,황표하,KANG, SHIN JYUNG,강신정,AHN, EUN SIK,안은식

申请号：

KR1020120042560

公开号：

KR1020130119621A

申请日:

2012.04.24

申请国别(地区):

KR

年份:

2013

代理人:

摘要：

The present invention relates to a composition containing large amount of 20(S)-ginsenoside Rg3 and a manufacturing method thereof, more specifically, to a composition containing large amount of 20(S)-ginsenoside Rg3 by treating an extract containing 30% or more of saponin with organic acid and a manufacturing method thereof.COPYRIGHT KIPO 2014본 발명은 20(S)-진세노사이드 Rg3를 다량 함유하는 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 좀더 자세히는 사포닌을 30% 이상 함유한 추출물에 유기산을 처리하여 20(S)-진세노사이드 Rg3를 다량 함유하는 조성물 및 그 제조방법을 제공한다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/