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混合研磨剤タングステンＣＭＰ組成物
- 专利权人:
- キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
- 发明人:
- スティーブン グランビーン,ジェフリー ディザード
- 申请号：
- JP20160558618
- 公开号：
- JP2017515302(A)
- 申请日:
- 2015.03.20
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 化学機械研磨組成物は、水系の液体キャリアならびにその液体キャリア中に分散された第１および第２のシリカ研磨剤を含んでいる。第１のシリカ研磨剤は、少なくとも１０ｍＶの永久的な正の電荷を有するコロイド状シリカ研磨剤である。第２のシリカ研磨剤は、中性の電荷または非永久的な正の電荷を有している。タングステン層を含む基材の化学機械研磨方法は、基材を上記の研磨組成物と接触させること、研磨組成物を基材に対して動かすこと、ならびに基材を削り取って基材からタングステンの一部を除去し、そしてそれによって基材を研磨することを含んでいる。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
