A second absorption grid (14) has a grid layer (21) and a support substrate (23), and is provided with a metal layer (22) interposed between the grid layer (21) and the support substrate (23). The grid layer (21) has x-ray-absorbing sections (26) for absorbing x-rays and x-ray-transmitting sections (27) for transmitting x-rays arranged alternatingly in a direction perpendicular to the direction of x-ray incidence. The x-ray-transmitting sections (27) comprise a non-conductive material. The support substrate (23) is conductive. When forming the x-ray-absorbing sections (26) by electroplating, a current terminal is connected to the support substrate (23), and the metal layer (22) functions as a sheath electrode.Selon cette invention, une deuxième grille (14) dabsorption comporte: une couche (21) de grille, un substrat (23), ainsi quune couche (22) métallique située entre la couche (21) de grille et le substrat (23). Dans la couche (21) de grille, des parties (26) dabsorption des rayons X, lesquelles absorbent les rayons X et des parties (27) de transmission des rayons X, lesquelles absorbent les rayons X, sont disposées face à la direction dincidence des rayons X, verticalement et en alternance, et les parties (27) de transmission des rayons X sont constituées de matériau non électroconducteur. Le substrat (23) est électroconducteur. Lors de la formation des parties (26) dabsorption des rayons X par électro-placage, une borne électrique est connectée au substrat (23) et la couche métallique (22) fait office délectrode à gaine.吸収型である第2グリッド(14)は、グリッド層(21)と支持基板(23)を有し、グリッド層(21)と支持基板(23)の間に金属層(22)を備える。グリッド層(21)は、X線を吸収するX線吸収部(26)とX線を透過するX線透過部(27)がX線の入射方向に対して垂直な方向に交互に配列され、X線透過部(27)が非導電性材料からなる。支持基板(23)は、導電性を有する。X線吸収部(26)を電気メッキにより形成するときには、電流端子は支持基板(23)に接続され、金属層(22)がシーズ電極として機能する。
