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放射線画像撮影用吸収型グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
专利权人:
FUJIFILM CORP
发明人:
KANEKO YASUHISA,金子 泰久,INOUE TOMOKI,井上 知己
申请号:
JP2012047256
公开号:
JP2013181916A
申请日:
2012.03.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation absorbing gird for radiographic imaging, which is not susceptible to joint failures at an interface where a sheath electrode is formed.SOLUTION: A radiation absorbing grid includes a grid layer 21 comprising X-ray absorbing sections 26 and X-ray transmitting sections 27 alternately arranged in a direction perpendicular to an X-ray incident direction a support substrate 23, having ion conductive material on the grid layer 21 side surface, for supporting the grid layer 21 and a metallic layer 22 which is located between the grid layer 21 and the support substrate 23 and comprises a first thin film 31 and a second thin film 32 or a third thin film 33. The first thin film 31 functions as a sheath electrode when the X-ray absorbing sections 26 are formed by electroplating. The second film 32 is a metallic film having better adherence to the X-ray transmitting sections 27 than the first thin film 31. The third film 33 is a metallic film having better bondability with the support substrate 23 than the first thin film 31 in anodic bonding.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】シーズ電極を形成した界面における接合不良が生じ難い放射線画像撮影用の吸収型グリッドを提供する。【解決手段】X線吸収部26とX線透過部27がX線の入射方向に対して垂直な方向に交互に配列されたグリッド層21と、グリッド層21側の面にイオン導電性材料を有し、グリッド層21を支持する支持基板23と、グリッド層21と支持基板23の間に金属層22とを有し、金属層22は、第1薄膜31と、第2薄膜32または第3薄膜33を含む。第1薄膜31は、X線吸収部26を電気メッキにより形成するときのシーズ電極である。第2薄膜32は、第1薄膜31よりもX線透過部27に対する密着性が良い金属薄膜である。第3薄膜33は陽極接合において第1薄膜31よりも支持基板23に対する接合性が良い金属薄膜である。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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